LDetek 工业气相色谱：精准监测电子气中痕量杂质

来源：珠海欧伯特测控技术有限公司 2026年01月14日 14:27

在半导体制造、LED生产、光伏产业以及平板显示等高科技领域，电子气体纯度是决定最终产品性能和生产效率的关键因素。LDetek工业气相色谱系统提供高灵敏度、高稳定性的实时在线监测解决方案，确保您的工艺气体纯净无瑕，从而优化生产工艺并显著提升产品质量。

MultiDetek3

电子气体监测设计的旗舰产品

MultiDetek3 是一款受欢迎的紧凑型?？榛坦ひ灯嗌滓?，具有双进样气入口和在线模块，可以同时对微量水分、氧以及微量杂质进行流分析。

MD3

产品概述

技术优势

? MultiDetek是LDetek专为电子特气和大宗气体监测开发的工业级气相色谱系统

? ?？榛杓?，可同时配置多达3个独立的检测通道

? 适用于半导体fab、气体供应商、特气生产企业等多种应用场景

? 多检测气并行工作，一台设备可同时监测多种气体和杂质，两个GCs合二为一

? 智能化自动进样和分析，无需人工干预

? 紧凑型设计，节省宝贵的洁净室空间;15.6英寸触摸屏，便于查看和操作

MultiDetek 3

监测关键杂质类型及危害

氧气和水分

电子气体中常见的污染物。它们会导致半导体晶圆在高温工艺中发生氧化反应，腐蚀敏感材料，严重影响薄膜生长质量、器件性能和合格率。例如，在ALD/CVD工艺中，痕量氧和水分需要严格控制在0.1 ppm甚至ppb以下，避免缺陷。

碳氢化合物

包括甲烷、乙烷，丙烷以及苯系物等有机杂质。这些杂质在半导体化学气相沉积和蚀刻等工艺中，可能在晶圆表面形成碳膜残留，导致产品电气性能异常、短路或开路，甚至影响后续工艺的兼容性。

金属羰基化合物

如镍羰基、铁羰基等，是极微量的金属污染物。即使是ppb级的浓度，也可能在半导体制造中沉积在晶圆表面，影响金属互连线的电阻率、可靠性，甚至导致器件失效。对这些杂质的精确控制是确保过程节点良率的关键。

MultiDetek 3

助力提升应用过程的效益

MultiDetek3具有0.1至1000ppb级别的低痕量杂质检测能力，灵敏度高，可精准识别水、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷、一氧化二氮，总碳氢化合物等多种关键杂质成分。因此可以显著减少因气体不纯导致的晶圆报废率。

气体纯度高至99.999999%

LDetek系统可稳定监测电子气体纯度高至8个9（99.999999%），检测下限可达0.1ppb，确保满足严苛的半导体制造要求，减少气体不纯带来的危害。

响应时间 5分钟

MultiDetek3系统可在5分钟内完成一个分析循环，实现对气体质量的快速检测和异常预警，平均重复性精度优于±2%，有助于提升整体净化效率。

降低成本 30%

通过精准控制气体纯度，有效减少原材料浪费和不良品率，帮助客户实现高达30%的运用成本节约。系统正常运行时间高达99.5%，提高生产效率。

凡本网注明“来源：仪表网”的所有作品，均为浙江兴旺宝明通网络有限公司-仪表网合法拥有版权或有权使用的作品，未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用上述作品。已经本网授权使用作品的，应在授权范围内使用，并注明“来源：仪表网”。违反上述声明者，本网将追究其相关法律责任。
本网转载并注明自其它来源（非仪表网）的作品，目的在于传递更多信息，并不代表本网赞同其观点或和对其真实性负责，不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时，必须保留本网注明的作品第一来源，并自负版权等法律责任。
如涉及作品内容、版权等问题，请在作品发表之日起一周内与本网联系，否则视为放弃相关权利。

Partypoker官网 - 领先的在线德州扑克平台 - Partypoker