在气体的纯化、分离及解析过程中，气体质量流量控制器（MFC）是核心控制部件，在这个过程中，通过流量精准控制实现杂质高效去除；调节气体组分比例与流速，优化选择性；确保脱附数据可靠性，支撑机理研究。

气体纯化中气体质量流量控制器实现原料气流量精确控制。比如惰性载气调节：在吸附纯化（如分子筛除水、脱氧）中，气体质量流量控制器控制原料气（如H?、N?）进入吸附塔的流量，避免流速过高导致吸附剂穿透。：对于含杂质（如CO?、H?S）的工业气体，气体质量流量控制器按比例混入稀释气，降低杂质浓度至吸附剂处理范围内。在变温（TSA）或变压（PSA）纯化中，气体质量流量控制器切换高纯吹扫气（如热氮气）的流量，确保吸附杂质脱附。通过气体质量流量控制器快速切换高低流量（如PSA的吸附/解吸阶段），提升纯化效率。比如：高纯氢制备中MFC控制原料氢（含CO?/CH?）进入钯膜分离器的流量，优化渗透侧纯度（>99.999%）。电子特气纯化中在SiH?纯化中，MFC确保反应气与载气的精确配比，避免流量波动引入颗粒污染。

气体分离中气体质量流量控制器独立控制进料气、渗透侧吹扫气的流量比（如O?/N?分离中，调节吹扫气流量改变选择性）。在GC中，气体质量流量控制器维持载气（He）流速恒定（±0.1%），确保保留时间重现性。多通道气体质量流量控制器同步调节混合气（如空气）中各组分（O?/N?/Ar）的进气比例，匹配吸附剂动力学特性。在空分装置中，气体质量流量控制器控制进塔气体流量，维持塔板温度梯度稳定。：如VPSA（真空变压吸附）中，气体质量流量控制器需在1秒内完成从高压吸附（10 bar）到真空解吸（0.1 bar）的流量切换。

气体解析中气体质量流量控制器维持吹扫气（Ar）流量恒定（如50 mL/min），确保脱附峰面积与样品实际吸附量严格对应。在NH?-TPD测试催化剂酸性时，气体质量流量控制器精确控制NH?脉冲注入量（误差<±1%）。通过记录气体质量流量控制器的实时流量数据，计算脱附气体总量（如CO?-TPD中计算活性位点密度）。若解析系统存在微漏，气体质量流量控制器可通过闭环控制自动补偿流量偏差。

在气体纯化、分离及解析全流程中，气体质量流量控制器精确控制原料气流量，实现惰性载气调节、杂质气体稀释、吹扫气与再生控制、分离过程流量优化、多组分比例控制、脱附过程控制等。莱峰流体可根据具体工艺（如半导体特气纯化或CO?捕集），结合气体特性、压力工况等定制MFC方案。

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